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有機トランジスタコミュのエリプソわかりません。誰か助けて〜!

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ウェットプロセスによる有機半導体の薄膜の膜圧測定にエリプソっていう機械を使おうと思ったのですが

膜圧を測ろうと思ったら光学係数の屈折率と吸収係数がわからないとダメなんですが、資料がなくてわかりません!

使っている有機半導体はP3HTなのですが、どなたかご存知ありませんか?

ちなみに、株式会社溝尻光学工業所のエリプソ使ってます。

コメント(9)

He-Neレーザでしょうか?
もしそうなら、膜のほうはひとまずn=1.5、k=0でやってみて下さい。膜厚の目安程度なら、それだけでOKだと思います。
より正確に求めたいなら、適度な膜厚のものをいくつか選んで、k=0だけ固定してnも計算させてみては?
早速、返事有難うございます。
He-Neレーザらしいです。波長は632nmくらい。
やってみましたが、どうも測定結果がばらばらで、すごく厚く製膜されていそうな膜でも小さな値しか出なかったりしています。
これは機械を信じるべきですかね?それとも自分の目を信じるべきですかね?
エリプソの基本的な原理は理解されてますよね?
単一波長、単一角度で解析する場合、出てくる膜厚はan+b(n=0,1,...)という形になりますので、波長が変えられないなら角度を変えて計ってa'm+b'という解との共通解を出すことになります。これを勝手にやってくれる装置もありますが、写真の溝尻のやつなら、自分でやらないと無理だったと思いますよ。
でも、実際には場所によるバラツキの影響などでなかなか一致しないでしょう。
エリプソで膜厚決めるなら、だいたい500nm以下(できれば150nm以下)じゃないと決めにくいと思います。
そうなんですか。分かりました
詳しい解説有難うございました。
これも乗りかかった船なので、ワタシの思うところを説明してみます。他の方からもご意見お願いします。
問)平坦かつ平滑な基板上の有機膜の膜厚を求める方法は?
1.触針式粗さ系(段差計)で基板との段差を計る(10〜)
2.AFMで基板との段差を計る(1〜3000)
3.IRやUB/Visなどの光学吸収から検量線を使って求める(50〜500)
4.薄膜硬度系で硬さの変わる押し込み深さを調べる(10〜5000?)
5.断面SEMで求める(50〜)
6.エリプソメトリで求める(0.5〜300)
7.断面TEMで求める(10〜1000)
候補としてはこんなところでしょうか。
一般的なやりやすさもこの順番になると思います。()内は、適した膜厚範囲のおおまかな目安(nm)です。
まともな触針式粗さ系があるなら、1が一番楽です。非常に緩やかな段差が計れますから適当なマスクの影のエッジで計れます。ただし、有機膜の場合は、細めの針で極めて弱い針圧にしないと引っ掻きやすいです。EL用アモルファス低分子で常に引っ掻かずに計れたら「神」です。
2だと、かなりシャープな段差を敢えて作らないと難しいです。慣れると有機膜を爪楊枝で引っ掻いてきれいな段差を作れますからお試しあれ。
3は、検量線を引くために一度他の方法で膜厚を調べる必要があります。また、結晶性の膜で配向が変化する場合にはやっかいです。
4は、金属材料系の研究室以外では珍しい装置だと思います。装置によっては簡単に計れますが、精度が出るかどうかは装置と設置環境次第です。
5は、基板が劈開しやすい場合は簡単にできますが、電子線を当てると有機膜があっと言うまに壊れますから要注意。
6は、基板との組合せによってはうまく計れず、n、k、dを独立に決められない場合や、計る波長に大きな吸収があると、やはり決めかねると思います。ルーチン的に膜厚を計る手段としては、測定波長で吸収が無い膜にしかお勧めできません。薄いところの感度は高いのですけど。
7は....普通やらんわな〜。(^^;
密度が分かってるなら質量変化から膜厚算出できませんか?

疑問あるのですけど,Masaさんの1-7は全てだいたい同じ値がかえってくるのでしょうかね?
>Masaさんの1-7は全てだいたい同じ値がかえってくるのでしょうかね?
精度が得られる範囲の膜厚であれば、それぞれをプロ級の人が計ればだいたい一致すると思います。
でも、1、2割違う値になることもあるでしょう。
意外に信用ならんのがAFMです。1年に一回以上キャリブレーションしている人は少ないので。

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