EUV露光装置がASML独占になってしまった遠因。

米国政府は1990年代末、米国の国立研究所で開発されたEUV（Extreme Ultraviolet）技術を利用する「EUV LLC」について、ニコンやキヤノンなど日本の露光装置メーカーへの直接ライセンス・参加を事実上阻止した。ところが米国にとって外国企業であるASMLは参加を認められた。この政策にはIntelの意向が強く働いたとされている。
EUVの基礎原理は日本が研究したものである。1980年代半ば、NTTの木下博雄氏が世界で初めてEUVによる投影像形成を実証した。
1997〜99年にニコンやキヤノンにも米国国立研究所のEUV知財と研究者へのASMLと同程度のアクセスが認められていたら、現在もASML・Nikon・Canonの3社がEUVで競争していた可能性があった。
このことは日本にとって不利益であった。また、ASML独占になったことによりEUV露光装置の値段が破滅的に高値になってしまった。
もっとも、日系企業は製造装置の設定を職人芸的な技術に頼っていたので、AMSLのようにソフトウェア的な解決を目指した装置と競合し得たかどうかは不明である。